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발행일: 2021/07/29  치학신문
대한치주과학회지(JPIS), 논문인용지수 2.614로 상승
작년에 이어 국내 치의학 SCIE 저널 중 최고점수를 갱신

허익 회장
 대한치주과학회(회장 허 익)는 학회 공식 학술지인 JPIS (Journal of Periodontal & Implant Science)의 2020년 논문인용지수(Impact Factor, IF)가 2019년 1.472에서 2.614로 상승하였으며, 전 세계 치과계 SCIE 등재 국제 학술지 전체 91개 논문 중 42위를 차지하여 작년에 이어 상위 50%(Q2) 그룹에 속하였다고 발표하였다. Clarivate사에서 지난 6월 30일 발표한 2020년 논문인용지수 발표 결과에 따르면 JPIS는 2014년 SCIE로 편입된 이후 처음으로 논문인용지수가 2.0을 넘었다고 하였다. 특히 JPIS에서 인용된 결과(self-citation)를 제외하더라도 2.543이라는 높은 결과를 보여서, 타저널에서 JPIS 논문을 많이 인용하는 결과를 보였다.
 JPIS는 1971년 창간하여 2010년 영문학술지인 JPIS로 바꾼 후, 2014년 SCIE에 편입되었으며, 최근 5년간 논문인용지수가 지속적으로 상승하면서, 우수한 성과를 보이고 있다.
 허익 회장은 “학회창립 61주년을 맞아 공식 학회지가 국제적으로 인정받아 매우 기쁘고, 학회지 발간에 힘써준 편집장, 편집이사, 편집실행이사, 편집위원들의 노고에 감사하다.                      “고 말했다.
 신승윤 편집장은 “SCIE 등재 7년만에 2점대 이상의 논문인용지수를 기록한 것은 매우 고무적이지만, 논문인용지수가 많이 상승했음에도 불구하고, 치과계 학술지 순위가 오히려 약간 하락한 것은 앞으로 상위 25%이내로 진입하기 위해 노력할 것이 많이 있음을 뜻하고, 논문의 질적 향상과 함께 출판윤리 및 국제요소 강화를 위해 보다 노력하겠다.”고 하였다.
 현재 JPIS의 발행은 신승윤 편집장(경희대), 박준범 편집이사(서울성모병원), 박신영(서울대), 박정철(단국대), 김용건(경북대) 편집실행이사와 편집위원들이 담당하고 있다.

 


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